SF6, или сярен хексафлуорид е газ, обикновено използван при сухо офорт, използван главно за офорт на силиций в процеса на производство на полупроводници. SF6 газът има октаедрична структура, състояща се от централен сярен атом, заобиколен от шест флуорни атома. Неполярните му свойства го правят изолационен газ в електрическо оборудване с високо напрежение. Физическите свойства на SF6 включват безцветни, без мирис, незабравими, нетоксични, изолационни, по-тежки от въздуха, капацитет за охлаждане, висока диелектрична якост, термична стабилност и лоша разтворимост във вода, но разтворими в неполярни органични разтворители.
По отношение на химичните свойства, SF6 почти не реагира с други вещества при стайна температура, но ще се разлага при силна ултравиолетова светлина.
SF6 обикновено се произвежда от индустрията и съдържанието му в природата е много малко. Реакционното уравнение за производството на SF6 е:
2 CoF3 + SF₄ + [Br₂] → SF₆ + 2 CoF₂ + [Br₂]
Когато SF₄, CoF3 и Br₂ се смесят заедно и се нагреят при 100 градуса, възниква реакция между тях. При тази реакция част от SF₄ и CoF3 реагира, за да произведе SF₆ и CoF₂. Бромът не се изразходва в реакцията, той действа само като катализатор.
Опасен ли е SF6?
Въпреки че SF6 е нетоксичен в чистото си състояние, той ще измести кислорода от въздуха, а концентрацията на обем, по-голяма от 19% във въздуха, ще доведе до задушаване. Ето защо е много важно да се открият навреме течовете на SF6 и да се предприемат подходящи превантивни мерки в процеса на производство на полупроводници.
Използване на SF6 в полупроводниковата индустрия
SF6 се използва широко в производството на полупроводници. В процеса на ецване на силиций SF6 се използва като основен газ за ецване и работи заедно с генерираните летливи газове SF4 и C4F8 за постигане на дълбоко ецване на силиций. В допълнение, SF6 често се използва за сухо ецване на Mo и W метали, като реагира с тези метали за генериране на летливи хексафлуориди MoF₆ и WF₆. Въпреки че SF6 не е предпочитаният газ за ецване на алуминий, той може да се използва като спомагателен газ за повишаване на скоростта на ецване на алуминий, когато се смеси с газове като Cl₂.
Силициево ецване
В етапа на ецване на силиций се ецва само силиконът на дъното, където пасивиращият филм е бил отстранен. Въвежда се газ SF6 и SF6 се дисоциира в плазмата, за да се генерират различни продукти на разлагане, включително силно активни флуорни атоми (F).
SF6-->SF4+F2-->SF2+2F2-->F+...
Генерираните флуорни атоми реагират със силиконовата повърхност, за да генерират силиконов тетрафлуорид (SIF4), летливо съединение, което лесно се изхвърля от камерата.
Si+4F-->SiF4
Долен пасивационен слой ецване
На този етап се образува пасивиращ слой както на страничната стена, така и на дъното. Ние обаче искаме да запазим пасивиращия слой само на страничната стена, за да предпазим страничната стена от гравиране, но трябва да премахнем пасивиращия слой на дъното, за да гравираме надолу. Следователно газът SF6 ще бъде въведен в този момент, за да атакува пасивиращия слой на дъното. След като пасивиращият слой на дъното изчезне, SF6 продължава да ецва силиция и цикълът се повтаря, като безкраен цикъл.
Фабрика за серен хексафлуорид Sf6 на едно гише в Китай
Изпратете вашето запитване за газ серен хексафлуорид SF6 до нас!
Ние ще предоставим висококачествен SF6 газ и услуги, за да отговорим на вашите нужди за покупка.
Изпратете запитване сега
