Хидрофлуороетер HFE 347: Прецизно почистване на пластини за полупроводници

В производството на полупроводници почистването на пластини е една от най-критичните стъпки, определящи добива и производителността на чипа. Тъй като технологичните възли продължават да намаляват, изискванията за процесите на почистване достигнаха безпрецедентни нива на строгост. Докато традиционното почистване на вафли RCA остава крайъгълният камък на мокрото почистване-ефективно при премахване на неорганични замърсители и частици-то е изправено пред значителни предизвикателства при справяне със сложни органични остатъци и изсушаване на деликатни структури.

Това е мястото, където високо{0}}ефективният хидрофлуороетер (HFE) доказва своята стойност. Като основен специален разтворител в съвременните процеси за почистване на полупроводници, HFE предлага прецизно, екологично съвместимо и високоефективно решение. Тази статия подчертава как HFE 347 може да усъвършенства почистването на полупроводникови пластини, като служи като мощно допълнение и надграждане към конвенционалните методи.

Класическият процес на почистване на пластини RCA разчита на високо-температури, висока-чистота на водни химически разтвори (напр. SC-1, SC-2). Въпреки че е отличен в премахването на йони, метални замърсители и частици, процесът има две присъщи ограничения:

Ограничена ефикасност срещу специфични органични замърсители като остатъци от фоторезисти, масла за вакуумни помпи, силиконови греси и модерни смазки от прецизни компоненти.

Предизвикателството при сушене с „вода“: Високото повърхностно напрежение на водата представлява критичен риск по време на крайната фаза на сушене, което често води до разпадане на модела и остатъци от воден знак, особено върху структури с високо-пропорция-съотношение.

HFE 347, като усъвършенстван хидрофлуороетерен разтворител, адресира тези болезнени точки директно чрез своите уникални физикохимични свойства, като се позиционира като идеалната среда за „прецизно сухо-в-мокро почистване.“

Интегрирането на HFE 347 във вашия процес на почистване на вафли осигурява следните основни предимства:

Превъзходна производителност на сушене за резултати „Нулев-дефект“.
С изключително ниско повърхностно напрежение и висока изпаряемост, HFE 347 се изпарява напълно без остатък, като основно елиминира разпадането на модела и водните знаци-резултат, непостижим с изсушаване с вода след-RCA почистване.

Отлична съвместимост на материалите
Нежен към вафли, метали, керамика и повечето полимери, той предотвратява корозия или повреда, като гарантира, че процесът на почистване не въвежда нови дефекти.

Целенасочена почистваща мощност
Изключителната разтворимост на PFPE (перфлуорополиетер) масла за вакуумни помпи, греси, някои остатъци от фоторезисти и органични частици го прави предпочитаният разтворител за отстраняване на тези специфични замърсители.

Висока гъвкавост на процеса
Съвместим с потапяне, спрей, парно обезмасляване и други методи за почистване на пластини. Особено подходящ за почистване на прецизни части и компоненти на камерата офлайн, като предотвратява прехвърлянето на замърсители върху пластините.

Съответствие с околната среда и безопасността
Характеризира се с нулев ODP (потенциал за изчерпване на озоновия слой) и нисък GWP (потенциал за глобално затопляне), отговарящ на строгите екологични разпоредби. Неговата ниска токсичност и не-запалимост повишават безопасността при работа.

Възможност за образуване на азеотроп
Може да образува азеотропни смеси с алкохоли (напр. IPA), позволявайки „едно-етапен“ чист-и-сух процес: първо разтворете органичните замърсители, след това изместете с чист HFE 347 за перфектно изсушаване, което значително рационализира работния процес.

Намалено използване на вода и отпадни води
Като не-воден разтворител, HFE 347 намалява зависимостта от ултрачиста вода и намалява тежестта от-скъпото пречистване на отпадъчни води.

HFE 347 не е предназначен да замени процеса на почистване на RCA, а да го допълва идеално:

Като стъпка на пред{0}}почистване: Премахва органичните замърсители от носителите на пластини, ръцете на роботите или частите на камерата, за да предотврати кръстосано-замърсяване.

Като пост{0}}процесно почистване: Ефективен след литография, ецване или CMP за отстраняване на специфични органични остатъци и частици, особено върху водо{1}}чувствителни структури.

Като среда за сушене: Използва се за сушене чрез изместване след окончателно изплакване с вода-надежден метод за защита на усъвършенствани модели на възли.

Водено от закона на Мур, почистването на полупроводникови пластини вече не е само премахване на мръсотия-това е нанометров-прецизен инженеринг. HFE 347 представлява интелигентно решение за съвременните предизвикателства при производството на полупроводници, съчетавайки ефективността на мокрото почистване с перфектната крайна-точка на сухата обработка.

Като доверен доставчик на HFE, ние предоставяме HFE 347 с изключително висока чистота и консистенция от-към-партида, гарантирайки, че вашият процес на почистване на пластини остава стабилен, надежден и ефективен. Независимо дали разработвате чипове от следващо-поколение или оптимизирате добивите на производствената линия, това е партньор в процеса, на който можете да разчитате.

Свържете се с нас днес, за да научите повече за HFE хидрофлуороетер HFE347!

Как да си сътрудничите с нас?

Нашият адрес

Стая 1102, Unit C, Xinjing Center, No.25 Jiahe Road, Siming District, Xiamen, Fujan, Китай

Телефонен номер

+86-592-5803997

Имейл-

susan@xmjuda.com